Китайский стартап Prinano сообщил о валидации технологии массового производства фотонных микросхем без использования традиционной литографии. Вместо дорогостоящих DUV-систем от компаний вроде ASML, которые ограничены санкциями, компания применила собственный метод вакуумного наноимпринтинга. Технология позволяет «штамповать» наноструктуры на 8-дюймовых кремниевых пластинах, как типографский штамп — что резко снижает себестоимость.

Разработка реализована совместно с Shenzhen Litra Technology и ориентирована на производство фотонных чипов — специализированных микросхем, работающих со светом, а не с электричеством. Они применяются в оптоволоконной связи, дата-центрах, лидарах и сенсорах. Повторяющаяся природа их структур делает их особенно подходящими для тиражирования методом импринтинга.

Хотя технология уже вышла за пределы лаборатории, Prinano не раскрыла данные о выходе годных чипов, объёмах производства и первых клиентах. Полноценный коммерческий запуск пока не подтверждён. Тем не менее, успех в производстве без литографии может изменить баланс в сегменте специализированных чипов, особенно в условиях технологической изоляции Китая.