2026年6月，深圳力策科技接收了國產廠商璞璘科技交付的納米壓印光刻設備，標誌著中國在繞開DUV光刻機的技術路線上邁入量產實踐階段。這項技術不依賴光學投影，而是以物理壓印方式轉移電路圖案，單片製造成本據稱僅為傳統方案的十分之一。納米壓印雖在先進邏輯芯片領域仍面臨套刻精度與缺陷控制的挑戰，但在光芯片、傳感芯片與AR/VR衍射光波導等應用場景中，因工藝層數少、容錯度高，已具備量產優勢。

國際方面，佳能已推出FPA-1200NZ2C設備，套刻精度達1.8nm，並結合AI實現全晶圓快速缺陷檢測，SK海力士與美光亦投入驗證。日本大日本印刷（DNP）更開發出適用於1.4奈米等級邏輯電路的10nm模板，目標2030年相關業務營收達40億日元。與此同時，中國本土生態也逐步成型：璞璘科技完成從設備交付到工藝替代的全鏈條驗證，天仁微納專注於AR/VR與生物芯片設備，蘇大維格則採取自產自用模式。

儘管納米壓印尚難撼動EUV在高端邏輯芯片的地位，但對長期受制於進口光刻機的中國晶圓廠而言，這條技術路線提供了「做得起、拿得到」的現實選項。賽迪顧問預估，2026年全球納米壓印市場規模將達33億美元，五年複合增長率達17.74%。真正的考驗不在實驗室，而在產線的長期穩定性與模具壽命管理。